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SEMICON Japan 2025

2025年10月16日掲載 開催予定
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展示会
半導体・エレクトロニクス
開催期間:2025年12月17日(水)〜 19日 (金)
会場:東京ビッグサイト
参加費:無料

ニコンは、高度な光利用技術と精密技術を基盤に、進化し続ける半導体製造産業に最適なソリューションを提供しています。
SEMICON Japan 2025では、ニコングループ全体で、露光装置から検査装置、レーザー加工機まで、半導体関連ビジネスを集約して展示いたします。
また、ブース内では毎日、ニコンの製品や技術をご紹介するセミナーも開催しておりますので、ぜひお気軽にお立ち寄りください。

展示する製品・内容

  • 展示1

    最先端の光技術で半導体製造を革新 ―― i線からArF液浸露光装置まで

  • 画像:露光装置NSRシリーズ

    ニコンは、長年培ってきた光学技術を駆使し、i線からArF液浸露光装置に至るまで、半導体製造の現場に革新をもたらしてきました。展示ブースではニコンの露光装置ラインアップに加え、今年の10月にリリースをした生産性と重ね合わせ精度を大幅に向上させたArFドライ装置「NSR-333F」のパネル展示も行います。

  • 展示2

    貼り合わせ・検査ソリューションの提供

  • 画像:アライメントステーション、ウェハ外観検査装置、自動マクロ検査装置

    近年、半導体デバイスの製造では微細化だけでなく、2次元/3次元の実装によっても進化しています。それに伴ってウエハの貼り合わせ工程やパッケージ工程の高度化が進行しています。
    貼り合わせウェハの重ね合わせ精度改善に貢献するアライメントステーション「Litho Booster」や、高スループットのマクロ検査装置「AMI-5700」をパネル展示いたします。

  • 展示3

    デジタル露光装置

  • 画像:デジタル露光装置

    AIなどの先端ICにおけるパッケージへの配線微細化ニーズに応えるため、ニコンは後工程向けデジタル露光装置「DSP-100」を受注開始しました。展示ブースでは、当社のデジタル露光装置「DSP-100」を用いて露光したガラス基板を当社の画像測定システム「NEXIV」で実際に計測いたします。高解像度(1.0 μm L/S)かつ高精度(≦ ±0.3 μm)なデジタル露光装置「DSP-100」でパターニングされたガラス基板を、ぜひ会場でご覧ください。

  • 展示4

    2D+3D測定を更に速く!画像測定システム『NEXIV VMF-Kシリーズ』紹介セミナー​

  • 画像:NEXIV VMF-Kシリーズ

    連続した高速/高精度測定によるタクトタイム短縮を実現する「NEXIV」を展示。高速AF機能、検査物の形状に応じた多様な測定、専用ソフトウェアによる測定結果の評価・解析など、実際の業務におけるNEXIVの活用効果を、目で見て体感していただけます。

  • 展示5

    計画と加工を1台でシームレスに。3D計測を活用した超短パルスレーザー加工機

  • 画像:Lasermeister 1000Sシリーズ

    本製品は機内に搭載された高精細な3D計測器と超短パルスレーザー加工を独自の制御システムにより融合した、誰でも容易に高精度な形状加工ができる装置です。会場では実際に様々な材料に加工を施したサンプルを複数展示しております。半導体製造/検査装置部品や精密電子部品金型での活用にぜひご検討ください。

    開催概要

    イベント名 SEMICON Japan 2025
    日時 2025年12月17日(水)~19日(金)10:00~17:00
    開催場所 東京ビッグサイト(東京都江東区有明3丁目11-1)
    ブース S1735
    詳細 SEMICON JAPAN
    https://www.semiconjapan.org/jp

    展示会へご来場される方は、下記より事前来場登録をお願いいたします。

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