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ArFスキャナー

NSR-S333F

ArF Dry NA 0.92 300 mm ≦ 65 nm
より高い重ね合わせ精度を実現する液浸装置プラットフォームを採用し、​生産性の向上と重ね合わせの高精度化を実現​
従来のArFスキャナーの光学系に加えArF液浸スキャナーのプラットフォームを採用。生産性の向上と重ね合わせの高精度化を実現し、ロジック、メモリ、イメージセンサーといった幅広いデバイスの微細パターン製造に対応します。
主な特長
  • プラットフォームの改良により、生産性が大幅に向上​
  • 業界最高水準※1の重ね合わせ精度を実現
    1. 2025年9月25日現在、ArFスキャナーにおいて。ニコン調べ。
  • Streamlign Platform

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株式会社ニコン
精機事業本部 半導体装置事業部

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