ArF液浸スキャナー

NSR-S625E

ArF Immersion NA 1.35 300 mm ≦ 38 nm
ミドルクリティカルレイヤー向けの先端半導体構造に最適なArF液浸スキャナー
NSR-S625Eは、実績のあるStreamlign Platformを継承したArF液浸スキャナーです。前機種のNSR-S622Dからスループットを約1.3倍向上させ、稼働安定性を大幅に改善。さらに高機能アライメントステーション「inline Alignment Station(iAS)」を搭載することで、さまざまな半導体の効率的な生産に貢献します。
主な特長
  • 高機能アライメントステーション「inline Alignment Station(iAS)」

お問い合わせ

株式会社ニコン
精機事業本部 半導体装置事業部

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