ArF液浸スキャナー

NSR-S636E

ArF Immersion NA 1.35 300 mm ≦ 38 nm
重ね合わせ精度とスループットを高レベルで両立した、クリティカルレイヤー向けArF液浸スキャナー
NSR-636Eは、従来機から搭載している高機能アライメントステーション「inline Alignment Station」をさらに改良。高いスループットを維持しつつ、ウェハの反りや歪みをより高精度に計測、補正することを可能にしました。
さらにダウンタイムの低減により、総合的な生産性を改善。ニコンの半導体露光装置の中で最高水準の生産性を実現しました。
主な特長
  • 高機能アライメントステーション「inline Alignment Station(iAS)」

お問い合わせ

株式会社ニコン
精機事業本部 半導体装置事業部

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