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ArF液浸スキャナー

NSR-S635E

ArF Immersion NA 1.35 300 mm ≦ 38 nm
重ね合わせ精度・スループットを向上させた最先端プロセス量産用ArF液浸スキャナー
2018年に発売された「NSR-S635E」は、最先端の半導体製造に求められる極めて高い重ね合わせ精度と生産性の両立を実現しています。これを可能にしたのが、「Streamlign Platform」と高機能アライメントステーション「inline Alignment Station(iAS)」です。
主な特長
  • 高機能アライメントステーション「inline Alignment Station(iAS)」

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株式会社ニコン
精機事業本部 半導体装置事業部

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