株式会社ニコン|Japan
| 型式 | NSR-SF100 | |
|---|---|---|
| 解像度 | ≦ 400 nm | |
| NA | 0.52 | |
| 露光光源 | i-line (365 nm wavelength) | |
| 縮小倍率 | 1:4 | |
| 最大露光範囲 | 25 mm × 33 mm | |
| 重ね合わせ精度 | ≦ 45 nm | |
| スループット |
≧ 80 wafers/hour (300 mm wafer) ≧ 120 wafers/hour (200 mm wafer) |
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株式会社ニコン
精機事業本部 半導体装置事業部
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