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RtoRマスクレス露光装置

特長

特長 1
マスクレス直描露光
GDSやGERBERといった各種CADデータを元にして、ダイレクトに露光パターンを形成することが可能です。従来必要であったマスクの作製工程が不要となるため、マスク作製にかかる時間やコストを大幅に削減できます。この特長は、研究開発(R&D)や少量多品種生産など、頻繁なパターン変更や多様な試作を必要とする場面で特に有効に機能します。また、マスクの保管コストも必要なくなります。
画像:マスクレス露光技術の露光イメージ図
特長 2
長尺露光パターン形成
登録したCADデータは、任意の範囲や任意の位置で繰り返し露光設定を行うことができます。これにより、複数の異なるパターンを効率よく一度に作製することが可能です。さらに、データの切り替えは連続的に行われるため、パターンの継ぎ目が発生せず、切れ目のない長尺の露光パターンを高精度に形成できます。周期パターン、非周期パターンなどの混在も露光レシピによって対応することが可能となります。
画像:CADデータ登録からパターン形成まで、長尺露光パターンの図
特長 3
ローラー上のポリゴンスキャン露光
精度よくフィルムを連続的に搬送しながら露光するために、ステージを搬送ローラーと共用する構成としています。ローラー上でフィルム形状をアライメントカメラを用いて計測し、その形状に合わせてパターンをリアルタイムに補正しながら連続的に露光することが可能です。
また、露光にはポリゴンを用いた光学モジュールを複数使用しており、幅広化にも対応できる構成となっています。
画像:ポリゴンスキャン露光装置の概略図
特長 4
高精度の重ね露光
フィルムはガラスに比べてプロセス中の温度・応力・張力の影響を大きく受け、大きな変形を起こします。このため、従来のマスクを有する露光装置では補正ストロークを確保することができませんでした。この装置はマスクレスの特徴を生かして大きな補正ストロークを有しており、変形が大きいフィルムに対しても高精度にパターンを重ねることが可能です。フィルムへの重ね精度は3 σ=2 μmとなっています。
画像:重ねズレ量のヒストグラム
特長 5
高精細の露光
ニコン独自の光学設計により、高精細なパターンを描画可能な露光モジュール採用しています。
液状感光レジストを使用してフィルム上にL/S=6 μmのパターンを形成することが可能です。
また、液状レジストの他にも、ドライフィルムや永久膜用の感光性樹脂などにも高精細なパターン形成が行えます。
画像:液状レジスト上に形成された、L/S高精細パターンの写真

実施例

枚葉

画像:多層フレキシブルデバイスの、変形補正前後の重ねズレ比較

RtoR

画像:RtoRで長尺フィルムにパターンを露光したもののズレ減少図

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株式会社ニコン
精機事業本部 商品戦略部