ラインナップ一覧 | 半導体露光装置

NSR-S636E

重ね合わせ精度とスループットを高レベルで両立した、クリティカルレイヤー向けArF液浸スキャナー

解像度：≦ 38 nm

最大露光範囲：26 mm × 33 mm

NA：1.35

NSR-S635E

重ね合わせ精度・スループットを向上させた最先端プロセス量産用ArF液浸スキャナー

解像度：≦ 38 nm

最大露光範囲：26 mm × 33 mm

NA：1.35

NSR-S625E

ミドルクリティカルレイヤー向けの先端半導体構造に最適なArF液浸スキャナー

解像度：≦ 38 nm

最大露光範囲：26 mm × 33 mm

NA：1.35

NSR-S631E販売終了品

解像度：≦ 38 nm

最大露光範囲：26 mm × 33 mm

NA：1.35

NSR-S630D販売終了品

解像度：≦ 38 nm

最大露光範囲：26 mm × 33 mm

NA：1.35

NSR-S622D販売終了品

解像度：≦ 38 nm

最大露光範囲：26 mm × 33 mm

NA：1.35

NSR-S621D販売終了品

解像度：≦ 38 nm

最大露光範囲：26 mm × 33 mm

NA：1.35

NSR-S620D販売終了品

解像度：≦ 38 nm

最大露光範囲：26 mm × 33 mm

NA：1.35

NSR-S610C販売終了品

解像度：≦ 45 nm

最大露光範囲：26 mm × 33 mm

NA：1.30

NSR-S609B販売終了品

解像度：≦ 55 nm

最大露光範囲：26 mm × 33 mm

NA：1.07

NSR-S322F

液浸装置で実績のあるStreamlign Platformを搭載し、重ね合わせ精度と生産性をさらに向上

解像度：≦ 65 nm

最大露光範囲：26 mm × 33 mm

NA：0.92

NSR-S320F販売終了品

解像度：≦ 65 nm

最大露光範囲：26 mm × 33 mm

NA：0.92

NSR-S310F販売終了品

解像度：≦ 65 nm

最大露光範囲：26 mm × 33 mm

NA：0.92

NSR-S308F販売終了品

解像度：≦ 65 nm

最大露光範囲：26 mm × 33 mm

NA：0.92

NSR-S307E販売終了品

解像度：≦ 80 nm

最大露光範囲：26 mm × 33 mm

NA：0.85

NSR-S306C販売終了品

解像度：≦ 100 nm

最大露光範囲：25 mm × 33 mm

NA：0.78

NSR-S305B販売終了品

解像度：≦ 110 nm

最大露光範囲：25 mm × 33 mm

NA：0.68

NSR-S203B販売終了品

解像度：≦ 180 nm

最大露光範囲：25 mm × 33 mm

NA：0.68

NSR-S220D

生産性と精度を大幅に向上したStreamlign Platformを採用

解像度：≦ 110 nm

最大露光範囲：26 mm × 33 mm

NA：0.82

NSR-S210D販売終了品

解像度：≦ 110 nm

最大露光範囲：26 mm × 33 mm

NA：0.82

NSR-S208D販売終了品

解像度：≦ 110 nm

最大露光範囲：26 mm × 33 mm

NA：0.82

NSR-S207D販売終了品

解像度：≦ 110 nm

最大露光範囲：26 mm × 33 mm

NA：0.82

NSR-S206D販売終了品

解像度：≦ 110 nm

最大露光範囲：25 mm × 33 mm

NA：0.82

NSR-S205C販売終了品

解像度：≦ 130 nm

最大露光範囲：25 mm × 33 mm

NA：0.75

NSR-S204B販売終了品

解像度：≦ 150 nm

最大露光範囲：25 mm × 33 mm

NA：0.68

NSR-S202A販売終了品

解像度：≦ 250 nm

最大露光範囲：25 mm × 33 mm

NA：0.60

NSR-S201A販売終了品

解像度：≦ 250 nm

最大露光範囲：25 mm × 33 mm

NA：0.60

NSR-SF200販売終了品

解像度：≦ 150 nm

最大露光範囲：26 mm × 33 mm

NA：0.63

NSR-2205EX14C販売終了品

解像度：≦ 250 nm

最大露光範囲：22 mm × 22 mm

NA：0.60

NSR-2205EX12B販売終了品

解像度：≦ 280 nm

最大露光範囲：22 mm × 22 mm

NA：0.55

NSR-2205EX10B販売終了品

解像度：≦ 320 nm

最大露光範囲：22 mm × 22 mm

NA：-

NSR-SF155

スカイフック構造とウェハステージ高速化により、高い重ね合わせ精度と高スループットを実現

解像度：≦ 280 nm

最大露光範囲：26 mm × 33 mm

NA：0.62

NSR-2205i14E2販売終了品

解像度：≦ 350 nm

最大露光範囲：22 mm × 22 mm

NA：0.63

NSR-2205iL1

多様なプロセス要望に応えつつ、既存装置との互換性を兼ね備える露光装置

解像度：≦ 350 nm

最大露光範囲：22 mm × 22 mm

NA：0.45

NSR-SF150販売終了品

解像度：≦ 280 nm

最大露光範囲：26 mm × 33 mm

NA：0.62

NSR-SF140販売終了品

解像度：≦ 280 nm

最大露光範囲：26 mm × 33 mm

NA：0.62

NSR-SF130販売終了品

解像度：≦ 280 nm

最大露光範囲：26 mm × 33 mm

NA：0.62

NSR-SF120販売終了品

解像度：≦ 280 nm

最大露光範囲：25 mm × 33 mm

NA：0.62

NSR-SF100販売終了品

解像度：≦ 400 nm

最大露光範囲：25 mm × 33 mm

NA：0.52

NSR-2205i12D販売終了品

解像度：≦ 350 nm

最大露光範囲：22 mm × 22 mm

NA：0.63

NSR-TFHi12販売終了品

解像度：≦ 500 nm

最大露光範囲：22 mm × 22 mm

NA：0.30 ~ 0.45 (variable)

NSR-2205i14E販売終了品

解像度：≦ 350 nm

最大露光範囲：22 mm × 22 mm

NA：0.63

NSR-4425i販売終了品

解像度：≦ 700 nm

最大露光範囲：44 mm × 44 mm

NA：-

NSR-2205i11D販売終了品

解像度：≦ 350 nm

最大露光範囲：22 mm × 22 mm

NA：0.63

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