複数の投影レンズで構成されたマルチレンズシステムを搭載。広い露光領域を確保すると同時に、高解像度を達成。
位置計測の干渉計システムを新規設計し、計測精度と位置制御性能を上げることにより高い重ね合わせ精度を実現。
新開発の投影レンズとステージにより、第6世代プレートで4スキャンを可能とし、高スループット(毎時85プレート)を実現。
独自技術により開発したさまざまなキャリブレーション機能を適用し、総合的により安定した露光性能を実現。
従来のマルチレンズシステムを継承するとともに、高解像度化のためにi線の投影レンズを新規開発。さらに大型プレートに対してマルチレンズの特性を生かし、プレート面の傾斜とその変化に対して焦点面を最適に追従させる画期的な補正システムを開発搭載。これらにより第6世代プレートで1.2 µm※(L/S)の高解像度での量産を実現。