複数の投影レンズで構成されたマルチレンズシステムを搭載。広い露光領域を確保すると同時に、高解像度を達成。
従来機をさらに進化させた高NAの投影レンズを新規開発。光源には量産プロセスで実績のあるi線を採用し、FX-68SH/68Sで開発した画期的なフォーカス補正システムを搭載。これらにより第6世代プレート全面において高い線幅均一性を確保しつつ、位相シフトマスク使用時で1.0 μm(L/S)の量産を実現。
従来機で実績のある高精度な計測と位置制御性能を継承しつつ、収差を抑えた新開発投影レンズとの組み合わせにより、高い重ね合わせ精度を実現。
1.0 μm※ の高解像度を従来機と同じ露光領域で達成。第6世代プレートで4スキャンを可能とするとともに、照明システムの最適化による照度向上によって高スループット(毎時85プレート)を実現。
従来機で実績のあるさまざまなキャリブレーション機能を適用し、稼働中の安定した露光性能を実現。