「Roll to Rollマスクレス露光装置」を設置した共創プラットフォーム「S3S LAB」を開設

フレキシブルエレクトロニクスの実用化を加速

2025年12月10日PRESS RELEASE/報道資料

株式会社ニコンは、神奈川県の相模原製作所内に、フレキシブルエレクトロニクスの開発に必要な一連の装置を備えた共創プラットフォーム「S3S LAB（エススリーエスラボ）」を2025年12月10日に開設し、稼働を開始します。「S3S LAB」には、ニコンが独自開発した最先端の「Roll to Roll（R2R）^※1マスクレス露光装置」をはじめ、デバイス製造に必要な成膜技術や多層配線形成技術を駆使した周辺装置を完備しています。研究開発から事業化まで、イノベーションの新たな拠点としてお客様の挑戦を強力にサポートします。

フレキシブルエレクトロニクスは、フィルム表面に電子回路を形成することで、薄型、軽量、透明、自由な形状を実現し、ディスプレイやセンサー、ペロブスカイト太陽電池など様々な分野で新たな可能性を切り開いています。しかしながら、研究開発から量産への移行には高額な設備投資が必要で、R2Rプロセスを一貫して検証できる共創プラットフォームは世界的に希少です。

「S3S LAB」は、試作品の製造から量産プロセス開発までを一貫して支援し、お客様は大規模な設備投資を行うことなく、量産に必要なプロセス検証や事業化判断を推進することが可能となります。量産フェーズにおいては、「S3S LAB」で培ったプロセス技術やR2R装置群の提供を通じて、お客様の事業化とフレキシブルエレクトロニクス産業の発展に貢献していきます。

※1ロール状のフィルムなどの基材に連続的に加工を施し、再びロール状に巻き取る製造方式のこと。基材を1枚ずつ処理する枚葉方式に比べて連続性に優れ、生産性が高い特長がある

S3S LABの概要

所在地	神奈川県相模原市南区麻溝台1-10-1 ニコン相模原製作所内
主なサービス	・試作品の製造・量産プロセス開発を含むトータルソリューションを提供
稼働開始日	2025年12月10日
主な設備	R2Rマスクレス露光装置、洗浄装置、スリットダイコータ、HMDS処理装置、アニール乾燥炉、現像装置、エッチング装置、剥離装置、検査装置、ラミネート装置、CVD/RIE装置、スパッタ装置、ミスト成膜装置、真空蒸着装置
利用方法	事前予約制

R2Rマスクレス露光装置の特長

熱などによる歪みや収縮が生じやすいフィルムに対して、6.0 µm^※2（L/S^※3）の解像度と± 2 µm以内の高い重ね合わせ精度を達成し、高精細・多層配線デバイスに対応
FPD露光装置で培ったマルチレンズテクノロジー^※4技術を活用し、1秒あたり10 mmの高生産性を実現
ロールの曲面上でパターニングを行うため、ポリゴンスキャン方式を採用。連続的なパターニングが可能
CADデータをもとに露光するため、フォトマスク不要で試作期間の短縮やマスクコストの削減に寄与する

※21 µm（マイクロメートル）は、100万分の1メートル（1000分の1 mm）を表す
※3Line and Spaceの略。配線の幅と隣り合う配線同士の間隔のことを指す
※4複数の投影レンズを並べて精密に制御することで1本の巨大レンズを用いたかのように露光するニコンのFPD露光装置の独自技術。1回の露光でより広い範囲へのパターニングが可能となる

R2Rマスクレス露光装置の概要

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製品名	Roll to Rollマスクレス露光装置
解像度	6.0 µm L/S
光源	i線相当
重ね合わせ精度	≦± 2 µm
対応フィルム幅	400 mm以下（その他のサイズ応相談）
スループット	10 mm/sec （Dose：100 mJ/cm²、レジスト膜厚：1.4 µmの場合）

R2Rマスクレス露光装置の詳細は以下のNikon Research Reportをご参照ください

大規模歪に対応したRoll-to-Rollマスクレス露光装置の開発（PDF:1.64MB）